일본 기업 도쿄 일렉트론의 반도체 장비 도포현상장치(도포 현상 장비)

도쿄 일렉트론

오늘의 소개 일본 도쿄일렉트론의 도포 현상 장치(도포 현상 장비)

안녕하세요. 오늘 소개해드릴 기술은 도쿄일렉트론에서 셰어(점유율) 100%를 자랑하는 도포 현상 장치(도포 현상 장비)에 대한 설명입니다. 반도체에서는 웨이퍼에서 반도체가 만들어집니다. 웨이퍼는 기본적으로 안정적인 성질을 가지고 있습니다. 그러나 화학물질과 빛의 정도에 따라서 웨이퍼의 성질이 변화하면서 일정 조건에서 전기가 통하고 일정 조건에서는 전기가 안 통하는 반도체로 변합니다. 

 

도포 현상 공정에 대한 설명

여기서 열처리 장치 안에 웨이퍼를 넣고 탄소가스를 투입하여 고온의 실리콘 산화막을 성장시킵니다.  여기서 실린(수산화 규소)과 암모니아를 투입해, 실리콘 황화 막을 CVD 법으로 증착시킵니다. 여기까지가 증착 과정입니다. 다음에 필요한 공정은 패턴을 형성하는 공정입니다. 패턴을 형성하기 위해서는 포토레지스트를 도포시켜서 원하는 설계 모양대로 포토공정을 해내는 것이 중요합니다. 패턴을 형성하기 전에 중요한 것은 웨이퍼 위에 포토레지스트를 잘 도포시키는 것입니다. 도포라는 것은 포토레지스트의 액을 균일하고 평탄하게 하는 과정입니다. 여기서 사용되는 장비는 스핀 커터랑 스프레이 커터입니다. 이 커터들을 고속으로 회전시키면서 UV광에 의해 성질을 변화시키는 포토레지스트 액을 웨이퍼 전면을 균일하게 핍니다. 

 

균일하게 핀 웨이퍼는 노광 과정을 거칩니다. 노광은 다음 자료에서 다룰 생각이지만, 간단하게 설명한다면, IC회로를 따라 그린 글라스 마스크를 웨이퍼에 맞춰 노광기를 사용해 UV광을 맞춰 포토레지스트 윗부분에 설계대로 따라 그립니다. 이렇게 노광이 끝나면 현상에 들어갑니다. 웨이퍼 위에 균일하게 현상액을 펴 바릅니다. 거기서 미리 그려진 패턴을 만듭니다. Positive 식 레지스트는 빛을 맞춘 곳이 Negative 식 레지스트는 빛을 맞추지 않은 곳이 가용성으로 바뀌게 되어, 웨이퍼 위에 마스크 패턴이 형성됩니다. 

 

일본 기업 도쿄 일렉트론의 반도체 장비 도포 현상 장치

여기서 도포와 현상에 대한 기계로써 전 세계 점유율 상위권 EUV 공정에서는 점유율 100%를 달성한 기업이 있습니다. 바로 일본의 도쿄일렉트론이라는 회사입니다. 

 

도쿄일렉트론에서는 EUV향 커터나 디벨로퍼(도포 현상 장치)가 EUV향 수요가 상승하면 상승할수록 또한 기술혁신이 일어나면 일어날수록 공정수가 늘어난다고 합니다. 이렇게 공정수가 늘어나게 되면 각 장비마다의 성능 향상이 일어나 성막장비(막을 형성하는 장비)나 에칭 장비 등의 파급효과가 높아지면서 이 공정에서 연계 장비이면서, 중요한 반도체 도포 현상 장치의 수요도 같이 늘어난다는 설명입니다. 

 

도쿄 일렉트론 도포 현상 장비(도포 현상 장치)

도쿄일렉트론은 이와 같은 반도체 도포 현상 장치를 가지고 있습니다. 각 공정별로 세부적으로 나뉘어있는 게 특징입니다. 그리고 제품군이 2개가 아닌 공정이나 산업에 따라 세부적으로 나뉘어있습니다. 

https://www.tel.co.jp/product/

製品 | 製品・サービス情報 | 東京エレクトロン株式会社

구체적인 기계에 대한 스펙이나 종류는 도쿄일렉트론의 제품군 홈페이지를 참조해주시면 감사하겠습니다. 

 

도쿄일렉트론은 도포 현상 장치(도포 현상 장비)에서 현재에 만족하지 않고 더욱 발전된 장비를 선보이고 있습니다. 도쿄일렉트론은 디바이스용 레이저 엣지 트리밍 장치 Ulucus L을 판매를 시작했다고 합니다. Ulucus L은 첨단 레이저 엣지 트리밍 장치로써 LITHIUS Pro Z에 융합시켜 전공정에서의 수율을 높이고 질 좋은 반도체를 양산하는데에 큰 도움을 줍니다. 이는 레이저 제어 기술을 사용하기 때문에 고품질의 단면과 고정 밀도의 고속 엣지 트리밍 가공을 가능하게 함으로 폐수 등을 줄일 수 있는 장점도 가지고 있다고 합니다.