반응형 도쿄일렉트론 도포 장치1 일본 기업 도쿄 일렉트론의 반도체 장비 도포현상장치(도포 현상 장비) 오늘의 소개 일본 도쿄일렉트론의 도포 현상 장치(도포 현상 장비) 안녕하세요. 오늘 소개해드릴 기술은 도쿄일렉트론에서 셰어(점유율) 100%를 자랑하는 도포 현상 장치(도포 현상 장비)에 대한 설명입니다. 반도체에서는 웨이퍼에서 반도체가 만들어집니다. 웨이퍼는 기본적으로 안정적인 성질을 가지고 있습니다. 그러나 화학물질과 빛의 정도에 따라서 웨이퍼의 성질이 변화하면서 일정 조건에서 전기가 통하고 일정 조건에서는 전기가 안 통하는 반도체로 변합니다. 도포 현상 공정에 대한 설명 여기서 열처리 장치 안에 웨이퍼를 넣고 탄소가스를 투입하여 고온의 실리콘 산화막을 성장시킵니다. 여기서 실린(수산화 규소)과 암모니아를 투입해, 실리콘 황화 막을 CVD 법으로 증착시킵니다. 여기까지가 증착 과정입니다. 다음에 필요.. 2022. 8. 18. 이전 1 다음 반응형
